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【24h】

GaN系HFETsの電流コラプスの測定~非極性a面GaN基板上HFET及びc-GaN基板上p-GaNゲートを用いたノーマリーオフ型JHFET

机译:使用非极性a面GaN衬底上的HFET和c-GaN衬底上的p-GaN栅极来测量GaN基HFET的电流崩溃-常关型JHFET

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摘要

c面および非極性a面GaN基板上AlGaN/GaN HFETの電流コラブスを測定した。a-HFETはc面上のHFETsに比べ高い閾値電圧と電流コラプス耐性の両立に優れることを実証した。また、p-GdNゲートを用いたc面ノーマリーオフ型JHFETについても電流コラブスの測定を行った、ドライエッチングによって露出されたAlGaN 表面のデバイスでは電流コラブスが極めて大きいが、SiNパッシベーションによって、as-grownで同じ組成·膜厚を有するAlGaNバリアのノーマリーオン型HFETsと同程度まで電流コラプス耐性が向上した。
机译:测量了c面和非极性a面GaN衬底上的AlGaN / GaN HFET的电流协作。结果表明,a-HFET在高阈值电压和电流崩溃电阻方面均优于c面上的HFET。此外,还使用p-GdN栅极对c面常关型JHFET进行了电流协作测量,该电流协作在通过干法刻蚀暴露的AlGaN表面上的器件中非常大,但是由于SiN的原因,耐电流崩塌性的改善程度与具有与生长时相同的成分和膜厚的AlGaN势垒的常开型HFET相同。

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