マイクロビームⅩ線回折法を用いた射出品内部の構造不均一性と力学特性

摘要

Ⅹ線マイクロビームを用いた回折実験は上記の状況で有効な実験手法である．X線マイクロビームとは放射光施設で得られる高輝度Ⅹ線を光学素子により試料位置でμmスケールに集光したⅩ線ビームのことである．集光ビームサイズの最小値としては，回折実験で用いられるⅩ線領域（8keV-20keV程度のエネルギー）でも10nm を切るビームサイズが実現しているが，利用できる光子数や利用のしやすさ等の観点から，小角散乱には数μmの，高角散乱には数百nmのビームサイズが用いられることが多い．同一箇所からの回折像を測定することで構造の時間発展を追跡でき，試料を走査しながら回折像を測定することで，構造の空間不均一性を解析することが可能である．高分子材料に対してもたとえば球晶中の多形分布の解析，繊維状試料の解析などへ応用され，射出成形体の解析にも応用されている．本稿では我々が最近実施した射出成形体への応用を例にとって，Ⅹ線マイクロビーム回折実験から得られる情報，実験時の注意点などを紹介する．