3Dプリンタを用いたSU-8モールディング法と裏面露光法を組み合わせたマイクロ・ミリスケール構造のシームレス作製

摘要

一般的なフォトリソグラフィでは、サブマイクロから数百マイクロメートルの平面構造物を作製することは比較的容易であるが、ミリメートルの立体構造物は、厚膜の成膜、光の減衰による膜厚方向の露光強度のばらつき、光の回折、焦点深度などの複合的な問題により、任意の形状を作製することは難しい。本研究では、単一のレジスト材料、単一のマスクのみで、同一基板上にマイクロからミリメートルの構造をシームレスに一括作製する技術を提案し、例としてミリメートル構造物を有するマイクロ流体デバイスを試作した。比較的安価な3Dプリンタとフォトリソグラフィを組み合わせた提案技術は、各種デバイス構造の作製やパッケージング要素の作製に有用である。