次世代リソグラフィ用レジスト材料の設計指針

摘要

半導体製造分野では，リソグラフィとよばれる微細加工技術により，半導体デバイスの大量生産が行われ，高集積化のための研究·開発が行われている．半導体ロードマップにおいて示される解像度の要求を満たすために，露光源の置き換えが歴史的に繰り返されてきた．