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IrO2/Ti不溶性アノードを用いたビアフィリング用硫酸銅めっき

机译:使用IrO2 / Ti不溶阳极进行通孔填充的硫酸铜电镀

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摘要

近年,電子機器の小型化·高機能化に伴いプリント配線板の高精細化が進んでいる。 しかし,その一方で歩留まりの低下が問題となっている。 その一因として,硫酸銅めっきにおける浴の管理方法が挙げられる。硫酸銅めっきの工程では,多くのファクタが時々刻々と変動しており,これらを精密に制御する必要がある。すなわち添加剤,塩類,浴中の不純物1) などの濃度,およびアノードサイズやアノード上に生成するスポンジ状の物質いわゆるブラックフィルム2)_5) の量などを管理しなければならない。
机译:近年来,随着电子设备变得越来越小和越来越复杂,印刷线路板的定义越来越多。但是,另一方面,产率的降低已经成为问题。原因之一是在硫酸铜镀中管理镀液的方法。在硫酸铜电镀过程中,许多因素会随时波动,因此有必要精确控制这些因素。即,必须控制浴中添加剂,盐,杂质1)的浓度,阳极的尺寸和在阳极上形成的所谓的黑膜2)_5)的海绵状物质的量。

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