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レーザー援用エアロゾルデポジション法による基材の熱ダメージを抑えた電子セラミックス厚膜の熱処理プロセス

机译:通过激光辅助气溶胶沉积法抑制基材热损伤的电子陶瓷厚膜热处理工艺

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摘要

本稿では,従来のレーザーアニールについて説明し,なぜ今までレーザーアニールが電子セラミックスに殆ど適応されなかったかについて概説した後,馬場らが行っているAD法で形成した電子セラミックス厚膜のレーザーアニールとそのねらいや将来性について紹介する.
机译:在本文中,我们解释了传统的激光退火,概述了为什么激光退火几乎未应用于电子陶瓷,然后对由Baba等人通过AD方法形成的电子陶瓷厚膜进行激光退火的原因。介绍目标和未来潜力。

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