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パルスバイアス電圧法によるプラズマCVD法で作製したDLC膜のトライボロジー特性

机译:等离子CVD法脉冲偏压法制备的DLC薄膜的摩擦学特性

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摘要

1998年度から実施されたNEDO委託の「炭素系高機能材料技術の研究開発」プロジェクトにおいて,固体潤滑膜として用いられているダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜の高機能化に関する研究を実施してきた.従来用いられてきた成膜時の基板へのDCバイアス電圧印加手法とは異なる,パルスバイアス電圧印加手法を適用しDLC膜を作製した結果,摩擦摩耗試験において膜の比摩耗量が大幅に減少することを見いだした。 また基板との密着強度も向上し,優れたトライボロジー特性をもつことが確認された.
机译:自1998年以来,在NEDO委托进行的“碳基高性能材料技术的研究与开发”项目中,我们一直在研究用作固体润滑膜的类金刚石碳(DLC)膜的高性能。通过使用与过去在成膜期间使用的DC偏置电压施加方法不同的脉冲偏置电压施加方法来制造DLC膜的结果,在摩擦磨损试验中,膜的比磨损量显着降低。我找到。还证实与基材的粘合强度得到改善,并且具有优异的摩擦学特性。

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