イオンビームを利用した薄膜形成技術と、酸化物のスパッタリング成膜技術の研究

摘要

従来より材料の表面に他の物質をコーティングする技術として、電解めっきや無電解めっきなどが広く利用されている。近年では、科学技術の進歩に伴い、材料に対する要求も多様化しており、コーティング膜の組成や構造を制御できる真空中での成膜プロセスの研究開発が進んでいるという。材料の符徴や性質を生かしながら、耐摩耗性や耐腐食性など、新たな特性を付与することが可能な技術で、半導体をはじめとする電子部品だけではなく、自動車や家電製品、携帯端末機器など、さまざまな分野で利用されている。