【24h】

スパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜の生成と評価

机译:溅射法制备LiMn_2O_4薄膜及评价

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摘要

RFマグネトロンスパッタリング法により、Li二次電池正極用のLiMn_2O_4薄膜を生成している。本研究では、様々な条件で薄膜を生成し、薄膜の膜厚の測定、X線回折による生成物質の同定、走査電子顕微鏡による表面の観察を行い、それぞれの薄膜を比較して生成条件による薄膜の変化を評価した。その結果、生成条件を変数とした膜厚の規則性の把握、生成した薄膜の同定に成功した。
机译:通过RF磁控溅射法制造用于Li二次电池的正极侧的LiMn_2O_4薄膜。在这项研究中,在各种条件下形成薄膜,测量薄膜的厚度,通过X射线衍射鉴定产物物质,并用扫描电子显微镜观察表面。评估了变化。结果,我们成功地把握了以形成条件为变量的膜厚的规律性,并确定了形成的薄膜。

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