一种采用磁控溅射法制备PBZ薄膜用的PBZ靶材的制备方法

摘要

本发明公开了一种采用磁控溅射法制备PBZ薄膜用的PBZ靶材的制备方法，先按照PBZ即锆酸铅钡的化合物分子式(Pb_1‑xBa_x)ZrO₃其中03O₄、BaCO₃、ZrO₂三种原料进行混合，再一次球磨、预烧、二次球磨，采用等静压技术压片成型为直径为40～100mm的坯体，排胶后坯体于1100‑1300℃烧结，制得磁控溅射用PBZ靶材。本发明首次采用固相法制得PBZ靶材，可以满足不同尺寸要求的磁控溅射用的PBZ靶材，以制备不同性能要求的PBZ薄膜。