高出力インパルスマグネトロンスパッタリング（HiPIMS）法の技術動向とその応用

摘要

これに対し，従来技術に次ぐ新しいスパッタリング技術として，高出力インパルスマグネトロンスパッタリング（High Power Impulse Magnetron Sputtering，以下HiPIMS）が着目され，2000年代を皮切りに欧州を中心に盛んに研究開発が行われてきた．近年日本国内でもHiPIMSシステム導入の動きが活発になりつつあり，その技術動向が大きく注目されている．本稿では，HiPIMS法に関する技術概要をまとめた上で，著者らの研究成果を交えた適用事例を紹介する．