パルスDC-PCVD法による各種金型の機能向上

摘要

プラズマCVD法（PCVD：Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition）は，原料はすべてガスを使い，プラズマ化学反応により膜を形成させるため，低温で密着性および緻密性に優れた皮膜を複雑形状品につき回り良く被覆できる。また，PCVD法は真空を破らずに1回の工程で1つの装置の中で窒化等の拡散硬化処理＋硬質皮膜という複合処理が簡単にできる。そのため，PCVD法は3次元立体形状物である各種金型の処理に向いている。そこで，量産型パルスDC-PCVD装置の構道とPCVD法により作製した緻密構造で高機能性を付与できる各種硬質皮膜の特性と応用について報告する。