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机译:双频感应耦合等离子体化学气相沉积法沉积氢化硅薄膜的研究
Hydrogenated silicon thin film; Fual frequency; ICP-PECVD;
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机译:等离子体增强化学气相沉积法沉积非晶SiC_x:H膜的晶体硅表面钝化
机译:等离子体增强化学气相沉积法沉积低介电常数SiOC(-H)薄膜的纳米力学分析
机译:通过等离子体增强的化学气相沉积沉积氢化非晶碳化硅薄膜
机译:氢化非晶硅,微晶硅和硅基合金薄膜的沉积和表征。
机译:等离子体增强原子层沉积在低温下沉积的HfO2薄膜的结构光学和电学性质
机译:通过等离子体增强的化学气相沉积沉积氢化非晶碳化硅薄膜