机译:磁控溅射氮化铬膜的沉积温度相关特性
机译:磁控溅射氮化铬膜的沉积温度相关特性
机译:微波ECR等离子体增强磁控溅射在室温下沉积无氢氮化硅薄膜
机译:微波ECR等离子体增强磁控溅射沉积无氢氮化硅薄膜。
机译:工作天然气性质对D.C的影响。 钢材氮化铬氮化铬和氧氮化物薄膜的磁控溅射沉积
机译:氮化铬和氮化铬铝外延膜,用于通过AC反应磁控溅射法生长α-氧化铝。
机译:通过磁控溅射中氮流量的氮气流量调节的Ti-Zr三元氮化物薄膜的结构组成和等离子体特性
机译:高功率脉冲磁控溅射和不平衡磁控溅射技术相结合产生的多层氮化铬/氮化铌涂层的缺陷生长
机译:用于HmC(混合微电路)应用的氮化钽,钛和钯薄膜沉积的DC磁控溅射系统的表征。