非平衡磁控溅射制备氮化铬膜及其摩擦学性能研究

摘要

为了克服传统TiN膜系镀层的性能不足,采用新型非平衡磁控溅射技术制备了一系列氮化铬膜,采用原子力显微镜(AFM)和SEM对所制备不同厚度的薄膜形貌进行了分析,测定了薄膜的厚度、硬度和膜基结合强度,并对薄膜的摩擦学性能进行了研究。结果表明,使用铬过渡层可以提高膜基结合强度,实现薄膜性能的优化。采用新型非平衡磁控溅射方法制备的氮化铬膜显示出高硬度、低摩擦系数和良好的抗磨性。并考察了镀层厚度对镀层摩擦学性能的影响以及其它影响镀层摩擦学性能的因素。