机译:LWR的抗性材料研究和EUV光刻的分辨率提高
EUV resist; acid generation efficiency; photo acid generator(PAG);
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机译:EUV抵制测试状态并减少光刻后的LWR
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机译:EUV光刻中LWR和分辨率改进的抗拒材料研究