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机译:羟基化SiO2表面HfO2原子层沉积初期的密度泛函理论研究
density functional theory; hafnium oxide; atomic layer deposition; dielectrics; HAFNIUM OXIDE; THIN-FILMS; DIELECTRIC-PROPERTIES; THERMAL-STABILITY; GATE DIELECTRICS; GROWTH; HFCL4; DECOMPOSITION; TEMPERATURE; EXCHANGE;
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