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机译:光刻中的激光带宽和其他聚焦源模糊
Lithography; Excimer laser; Laser bandwidth; High NA imagery; Microlithography; High resolution lithography; Process control; Linewidth uniformity; Proximity effects; Simulation;
机译:光刻中的激光带宽和其他聚焦源模糊
机译:长腔DBR激光器通过聚焦离子束光刻制造的弱侧向耦合光栅实现22 GHz调制带宽
机译:激光辅助对置等离子聚焦装置作为EUV光刻的光源
机译:光刻中的激光带宽和其他聚焦源模糊
机译:研究激光产生的等离子体产生的极紫外线,作为下一代光刻的来源。
机译:垂直腔面发射激光源用于千兆赫带宽多波长频域光子迁移
机译:长腔DBR激光器通过聚焦离子束光刻制造的弱横向耦合光栅实现22 GHz调制带宽
机译:使用和无源光源阵列以及聚焦元件阵列的无掩模光刻系统和方法。