机译:二氯硅烷,三氯硅烷和四氯硅烷的蒸气压从300 K到420 K
机译:二氯硅烷,三氯硅烷和四氯硅烷的蒸气压从300 K到420 K
机译:石英晶体微天平,用于评估超薄立式冷壁化学气相沉积反应器中环境氢气中二氯硅烷和三氯硅烷之间的气体运动差异
机译:通过使用二氯硅烷,硅烷和三硅烷的减压化学气相沉积法实现低温Si同质外延
机译:使用四乙基甲基硅酸盐,二氯硅烷和氨混合物的氮氧化硅膜的低压化学气相沉积
机译:由三氯硅烷生产二氯硅烷
机译:压力至35 MPa时饱和和压缩的液态氮和蒸气氮的摩尔热容(Cv)从65至300 K
机译:在纤薄的垂直冷壁化学气相沉积反应器中,用于评估二氯硅烷与三氯硅烷与三氯硅烷之间的气体运动差异的石英晶体微稳定
机译:OF2和B2H6在两种组分饱和蒸汽压力条件下的燃烧性和惰性加压气体在200和300R之间