机译:使用原硅酸四乙酯,二氯硅烷和氨气混合物对氮氧化硅膜进行低压化学气相沉积
机译:由原硅酸四乙酯,二氯硅烷和氨气混合物形成的低压化学气相沉积氮氧化硅膜的热力学研究和表征
机译:SiCl_2H_2-NH_3-N_2O混合物中低压化学气相沉积氮氧化硅薄膜的光吸收阈值
机译:使用四乙基甲基硅酸盐,二氯硅烷和氨混合物的氮氧化硅膜的低压化学气相沉积
机译:通过低压化学气相沉积的碳化硅薄膜,用于微和纳米机电系统。
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:低压快速热化学气相沉积制备薄硅氮氧化物薄膜的表征
机译:单晶硅上LpCVD(低压化学气相沉积)钨膜隧道形成条件