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机译:氧气/氩气压力比对室温下沉积的ITO薄膜的形貌,光学和电学性质的影响
indium tin oxide; DC sputtering; optical and electrical properties; free carrier density (n(c)); the carrier mobility (mu) of the ITO film; SURFACE-ROUGHNESS; THICKNESS; CONSTANTS;
机译:氧气/氩气压力比对室温下沉积的ITO薄膜的形貌,光学和电学性质的影响
机译:衬底温度和氧/氩流量比对射频磁控溅射制备的GZO薄膜的电学和光学性能的影响
机译:脉冲激光沉积Bi2O3:HO3薄膜的晶体结构对晶体结构,形态学和发光性能的影响:HO3薄膜
机译:ZnO:XN薄薄膜通过化学喷雾沉积。沉积温度对电,光学,结构和形态特性的影响
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:飞秒脉冲激光沉积TiO2薄膜的相变形貌光学和电学性质
机译:氧气/氩气压力比对室温下沉积的ITO薄膜的形貌,光学和电学性质的影响