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机译:基于不同等离子体化学性质的等离子体刻蚀模型在微机电系统中的应用
Etching; Anisotropy; Etch rates; Sidewall passivation; Mems; High aspect ratio etching; Silicon; Fabrication;
机译:基于不同等离子体化学性质的等离子体刻蚀模型在微机电系统中的应用
机译:C掺杂的基础InGaAs / InP DHBT结构的ECR等离子体刻蚀制备f比较CH_4 / H_2 / Ar与BCl_3 / N_2等离子体刻蚀化学
机译:在卤素基等离子体中进行硅刻蚀时,反应器壁对等离子体化学性质和硅刻蚀产物密度的影响
机译:通过等离子刻蚀化学优化在光子波导应用中降低Si和SiN中的线边缘粗糙度
机译:大气压氩等离子体射流与空气杂质的等离子体化学建模,用于等离子体医学应用
机译:Sprague-Dawley大鼠Letrozole脑和血浆药代动力学的基于性别的差异:基于生理学药代动力学建模的应用来获得定量洞察
机译:使用光发射光谱法测定等离子体蚀刻建模的定量分析:等离子体蚀刻响应预测
机译:在高密度等离子体中模拟铝蚀刻化学