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【24h】

Closed-Loop Control of Copper Damascene Electroplating Solutions

机译:铜镶嵌电镀溶液的闭环控制

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摘要

With the damascene process gaining full acceptance in the high-volume manufacturing process for the next generation of semiconductors, reliable metrology is of utmost importance. CVS has shown that it is a highly accurate and precise method for the control of the organic additives, Closed-loop control enhances dosing sys-tem performance and prevents undesirable deterioration in plating solution quality.
机译:随着大马士革工艺在下一代半导体的大批量生产过程中得到完全接受,可靠的计量至关重要。 CVS已证明这是一种用于控制有机添加剂的高度准确和精确的方法,闭环控制可增强配料系统的性能并防止镀液质量的不良下降。

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