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【24h】

CMPパッド加工のパイオニアSiC向け研磨を事業化へ

机译:用于CMP焊盘加工的先锋SiC抛光剂的商业化

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摘要

東邦エンジニアリング(株)(三重県四日市市山分町字川之下443、059-364-3811)は、CMP研磨の黎明期である1990年代後半にCMPパッド加工技術を確立し、事業化した。以降、CMPパッドの受託加工や加工装置の販売、パッド再生へと事業を拡大してきた。新たにSiCやGaN基板に適した新たな研磨法「CARE法」の開発に参画し、事業化を目指している。2017年にはCARE法研磨装置の第1号機を納入予定だ。
机译:东宝工程株式会社(三重市四日市市山本町川下町河下下市443,059-364-3811)在CMP抛光的曙光中建立了CMP抛光垫处理技术,并将其商业化。从那时起,它已将业务扩展到CMP垫的外包加工,加工设备的销售和垫再生。我们旨在通过新近参与开发适用于SiC和GaN基板的新型抛光方法“ CARE方法”来实现商业化。第一台CARE抛光机将于2017年交付。

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  • 来源
    《半導体産業新聞 》 |2017年第2238期| 4-4| 共1页
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