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高周波领域で低損矢の多層基板製造用に米国の化学薬品メーカ一が開発

机译:由美国一家化学品制造商开发,用于制造在高频范围内具有低损耗的多层基板

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摘要

米国の化学品メーカーであるMacDermidEnthone Electronics Solutions社は、高周波領域で低損失のビルドアップ基板の製造用に、新しいセミアディティブプロセス「SAP-RIGID」を開発した。この新プロセスは、幅広い製造環境において、低スミア(表面粗さRa=40-100nm)、および安定した接着強度(610-680gf/cm)の確保が可能である。SAP-RIGIDは、同社の卓越したエツチング、ユンデイショニング、おおよびダイレクトメタライゼーンョン技術を融合させたプロセスでめる。一般的なセミアディティブプロセス同様の工程既存の機器を使用することができる。さらに同プロセスにより処理した誘電体表画ま、表面粗さが小さく、化学結合による無電解めつきで優れた接着性を発揮する。同社の実験において、SAP-RIGIDプロセスは、シァネートエステル/エポキシ樹脂ブンド系の誘電材料に適応し、低スミア(Ra=80+/-18nm)、優れた接着性(658+/-18gf/cm)という結果を出した。さちに同社では、現在SAPが使用されている多種多様な巿場において、SAP-RIGIDプロセスの採用を模索していく計画である。
机译:美国化学制造商MacDermid Enthone电子解决方案公司开发了一种新的半添加工艺“ SAP-RIGID”,用于生产高频范围内的低损耗积层板。这种新工艺可以在广泛的制造环境中确保低污点(表面粗糙度Ra = 40-100nm)和稳定的粘合强度(610-680gf / cm)。 SAP-RIGID使用结合了公司出色的蚀刻,切割和直接金属化技术的工艺。与一般的半加法工序相同的工序可以使用现有的设备。此外,通过相同工艺处理的电介质表面的表面粗糙度小,并且由于通过化学结合的化学镀而显示出优异的粘合性。在公司的实验中,SAP-RIGID工艺适用于氰酸酯/环氧树脂键合型介电材料,低污点(Ra = 80 +/- 18nm),优异的附着力(658 +/- 18gf / cm)我得到了结果。顺便说一句,该公司计划在当前使用SAP的各个市场中寻求采用SAP-RIGID流程。

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