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高周波领域で低損矢の多層基板製造用に米国の化学薬品メーカ一が開発

机译:美国化学品制造商是为生产用于低损坏和到达高频域的多层基材的制造商

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摘要

米国の化学品メーカーであるMacDermidEnthone Electronics Solutions社は、高周波領域で低損失のビルドアップ基板の製造用に、新しいセミアディティブプロセス「SAP-RIGID」を開発した。この新プロセスは、幅広い製造環境において、低スミア(表面粗さRa=40-100nm)、および安定した接着強度(610-680gf/cm)の確保が可能である。SAP-RIGIDは、同社の卓越したエツチング、ユンデイショニング、おおよびダイレクトメタライゼーンョン技術を融合させたプロセスでめる。一般的なセミアディティブプロセス同様の工程既存の機器を使用することができる。さらに同プロセスにより処理した誘電体表画ま、表面粗さが小さく、化学結合による無電解めつきで優れた接着性を発揮する。同社の実験において、SAP-RIGIDプロセスは、シァネートエステル/エポキシ樹脂ブンド系の誘電材料に適応し、低スミア(Ra=80+/-18nm)、優れた接着性(658+/-18gf/cm)という結果を出した。さちに同社では、現在SAPが使用されている多種多様な巿場において、SAP-RIGIDプロセスの採用を模索していく計画である。
机译:MacDermidenthone电子解决方案是美国化学制造商,开发了一种新的半添加过程“SAP-刚性”,用于制造高频区域的低损耗积聚基板。该新工艺能够在广泛的制造环境中确保低SIM​​EA(表面粗糙度RA = 40-100nm)和稳定的粘合强度(610-680 gf / cm)。 SAP-Rigid是一种结合公司出色的蚀刻,不知情和融合金属系统技术的过程。常见的半标题过程可以使用类似步骤现有设备。此外,通过该方法处理的电介质前图像,表面粗糙度小,并且由于化学键合而通过无电膜表现出优异的粘合力。在公司的实验中,SAP-刚性过程适用于氰酸酯/环氧树脂束系统的介电材料,低同eA(RA = 80 +/- 18nm),优异的附着力(658 +/- 18 gf / cm)结果给出了。此外,该公司还计划在目前使用SAP的各种地方寻求采用SAP-INGID流程。

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