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机译:氮等离子体浸没离子注入中增强的辉光放电动力学的转变
Department of Physics and Materials Science, City University of Hong Kong, Kowloon, Hong Kong;
Glow discharge; implantation current; ionization; plasma immersion ion implantation (PIII); voltage drop;
机译:离子聚焦在增强的辉光放电等离子体浸没离子向硅中注入氢和氮
机译:离子聚焦在增强的辉光放电等离子体中将氢和氮离子注入硅中
机译:环形磁体对增强辉光放电等离子体浸没离子注入中放电特性的影响
机译:利用脉冲高压辉光放电等离子体浸没离子注入和沉积增强磷注入的类金刚石碳膜的生物相容性
机译:通过射频辉光放电增强用于感应和刺激的可植入电极的组织整合。
机译:辉光放电等离子体处理对氧化锆表面增强骨细胞状细胞分化和抗微生物作用
机译:通过等离子体浸渍离子注入和氮化在闪光放电中的表面硬化,电动静电隔音
机译:低压等离子体中大气压辉光放电物理和纳米粒子成核与动力学。 DE-FG02-00ER54583奖的最终报告。报告期:2000年8月15日至2007年8月14日