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机译:Si_(1-x)Ge_x / Si_(1-y)Ge_y,超晶格的热导率:界面散射与内部散射之间的竞争
Department of Electrical and Computer Engineering, University of Massachusetts-Amherst, Amherst, Massachusetts 01003-9292, USA;
Department of Electrical and Computer Engineering, University of Wisconsin-Madison, Madison, Wisconsin 53706-1691, USA;
机译:在松弛的Si_(1-x)ge_x虚拟衬底上使用通过氧化形成的富含Ge的层在应变Si / si_(1-y)ge_y双通道上进行新制备
机译:(001)张弛Si_(1-y)Ge_y上的应变Si /应变Si_(1-x)Ge_x双通道pMOSFET的沟道电荷的TCAD准备密度梯度计算
机译:任意取向Si_(1-y),Ge_y衬底上应变Si_(1-x)Ge_x层中电子迁移率的蒙特卡洛模拟
机译:应变Si /应变Si_(1-x)Ge_x / RelaxD Si_(1-Y)Ge_y PMOSFET的分析阈值电压模型
机译:II-VI DMS异质结构的磁光研究:锌(1-xy)锰(x)镉(y)硒/锌(1-x)锰(x)硒单量子阱,锌(1-x)镉( x)硒/锌(1-y)锰(y)硒I型和硒化镉/碲化锌的II型超晶格。
机译:石墨烯/聚酰亚胺导热复合膜中的界面热阻和椎相色散射的显着降低用于热管理
机译:Si_(1-x)Ge_x合金纳米线的晶格导热系数散射散射:理论研究
机译:si_(1-x)Ge_x / si异质结内部光电发射红外探测器的光响应模型