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机译:使用中能离子散射的薄膜中亚纳米分辨率的深度应变曲线
CEA-INAC/UJF-Grenoble 1 UMR-E, SP2M, LEMMA, MINATEC Campus, 38054 Grenoble cedex 9, France;
Institut des Nanotechnologies de Lyon, Universite de Lyon, INL-UMR5270, CNRS, INSA de Lyon, Villeurbanne 69621, France;
CEA-INAC/UJF-Grenoble 1 UMR-E, SP2M, LEMMA, MINATEC Campus, 38054 Grenoble cedex 9, France,FEI Company, Achtseweg Noord 5, 5600 Eindhoven, The Netherlands;
CEA-Leti, MINATEC campus, 38054 Grenoble cedex 9, France;
CEA-Leti, MINATEC campus, 38054 Grenoble cedex 9, France;
CEA-INAC/UJF-Grenoble 1 UMR-E, SP2M, LEMMA, MINATEC Campus, 38054 Grenoble cedex 9, France;
Institut des Nanotechnologies de Lyon, Universite de Lyon, INL-UMR5270, CNRS, INSA de Lyon, Villeurbanne 69621, France;
medium energy ion scattering; SiGe nanostructures; strain profiling;
机译:深度分辨X射线吸收光谱技术对薄膜的化学状态和磁性结构进行亚纳米分辨率深度分析
机译:深度分辨X射线磁性圆二色性技术对薄膜磁性结构的亚纳米分辨率深度分析
机译:平行角分辨X射线光电子能谱和中能离子散射对HON在SiON超薄膜上的深度分布分析
机译:使用中能离子散射(MEIS)进行增强的深度分辨率分析,用于浅结分析
机译:超薄氧化膜界面的中能离子散射研究。
机译:掠入射时通过高能X射线快速全散射研究薄膜和超薄膜的局部原子结构
机译:高分辨率中能离子散射(MEIS)分析用于超薄高k层的定量深度分析
机译:高分辨率中能离子束分析与超薄膜加工