法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-03-17
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B5/02 授权公告日:20061129 终止日期:20190328 申请日:20020328
专利权的终止
2006-11-29
授权
授权
2004-06-02
实质审查的生效
实质审查的生效
2003-11-26
公开
公开
机译: 光散射反射板和光散射膜以及使用其形成用于形成转印膜的光散射层的光散射层的方法
机译: 光散射层形成转移膜以及使用其形成光散射层的方法以及光散射膜和光散射/反射板
机译: 光散射层形成转移膜以及使用其形成光散射层的方法以及光散射膜和光散射/反射板