机译:通过MOVPE在4英寸Si(111)上外延生长GaN
NEXT, IMEC, Kapcldrccf 75, 3001 Leuvcn, Belgium ESAT, Department of Electrical Engineering, Katholieke Universiteit Leuven, Belgium;
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NEXT, IMEC, Kapcldrccf 75, 3001 Leuvcn, Belgium Department of Physics, Katholieke Universiteit Leuven, Belgium;
linear defects: dislocations; disclinations; Ⅲ-Ⅴ semiconductors; vapor phase epitaxy; growth from vapor phase;
机译:HVPE在蓝宝石上使用外延横向过生长和含钨掩膜在蓝宝石上自分离的厚两英寸GaN层的自分离
机译:使用大剂量Nt离子注入在Si(111)衬底上GaN的外延横向过生长**
机译:大剂量N + sup>离子注入† sup>在Si(111)衬底上GaN的外延横向过生长
机译:通过Movpe在4英寸Si(111)上的GaN的外延横向过度生长
机译:利用外延横向过生长来增加电压的薄硅太阳能电池的设计,制造和分析
机译:使用两步横向外延过生长过滤半极性(11-22)GaN中的缺陷
机译:MOVPE改善了InP外延横向过长
机译:si(111)上GaN的横向外延生长