ユーザーの歩留まり向上を支援2xnm世代に対応へ

摘要

われわれの使命は，ユーザーが量産 ラインで抱える歩留まり向上の課題を克 服することにある。2009年もこの使命を 果たすことに注力する。 45nm世代以降，ユーザーはデバイス を量産するうえで困難に直面している。 新たなプロセス技術や材料の導入などに より，これまで以上に歩留まりの確保が 難しくなっている。われわれはこの問題 を解決するソリューションを，ウエーハ 検査装置，マスク検査装置，計測装置 のそれぞれで提供していく。4Xnm世代 向けについては，従来ユーザーとの共同 開発によって量産対応装置を既に完成さ せた。目下，2Xnm世代以降に向けた研 究開発を進めている。こうした微細化へ の対応では，当面，ダブル・パターニン グ技術への対応が重要となる。