机译:利用电子束光刻技术设计和制造用于光纤-波导耦合的光纤衍射元件
LILIT-NNL (National Nanotechnology Laboratory), TASC-INFM Nanolithography beamline at Elettra Synchrotron Light Source, Area Science Park, S.S.14 km 163.5, 34012 Basovizza, Trieste, Italy;
fiber-waveguide coupling; phase diffractive elements; e-Beam lithography;
机译:通过在模拟抗蚀剂上使用电子束直接写法和单一化学辅助离子束刻蚀步骤来制造单质衍射光学元件
机译:用于大功率光纤耦合应用的傅立叶平面衍射光学元件的设计与制造
机译:光纤到波导耦合的聚焦离子束在光纤顶部连续浮雕制作衍射光学元件-微透镜的设计与制造
机译:电子束光刻:一种制造衍射和微光学元件的有效工具
机译:通过电子束光刻技术制造衍射光学元件。
机译:高效耐制造误差的平面太赫兹衍射光学元件的计算设计框架
机译:None
机译:X射线光刻的新应用:具有深相分布的闪耀差分光学元件的制造