机译:使用基于聚焦离子束的蚀刻在1.5μm半导体激光器中制造高反射光栅
Ataturk University, Engineering Faculty, Department of Electrical and Electronics, 25240 Erzurum, Turkey;
rnAtaturk University, Engineering Faculty, Department of Electrical and Electronics, 25240 Erzurum, Turkey;
Room 4.21, University of Bristol, Merchant Venturers Building, Woodland Road, Bristol BS8 1UB, United Kingdom;
rnRoom 4.21, University of Bristol, Merchant Venturers Building, Woodland Road, Bristol BS8 1UB, United Kingdom;
focused ion beam etching; inductively coupled plasma etching; laser diodes; semiconductor/air gratings;
机译:高性能半导体激光器应用的高反光金属介质镜的制造与分析
机译:用于高性能半导体激光应用的高反射金属介电镜的制造和分析
机译:聚焦离子束刻蚀,用于制造由Ⅲ-Ⅴ族半导体材料制成的微柱状微腔
机译:从蓝宝石制造基板上激光释放后,对钛酸锆钛酸铅薄膜的界面区域进行聚焦离子束蚀刻
机译:使用聚焦离子束技术制造先进的半导体激光器和其他光电器件。
机译:通过深反应离子蚀刻制造高纵横比硅光栅
机译:使用深蚀刻的半导体/空气光栅的高反射分布布拉格反射器,用于InGaN / GaN激光二极管
机译:用于同心圆光栅,表面发射半导体激光器的弯曲光栅制造技术