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机译:通过高产量卷对卷紫外线纳米压印光刻技术制造高纵横比图案
Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science, 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, Japan;
Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science, 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, Japan;
Tsukuba Research Center, Kuraray Co., Ltd., 41 Miyukigaoka, Tsukuba, Ibaraki 305-0841, Japan;
Tsukuba Research Center, Kuraray Co., Ltd., 41 Miyukigaoka, Tsukuba, Ibaraki 305-0841, Japan;
Nanoimprint lithography; Roll-to-roll; High throughput; High-aspect-ratio pattern; Release agent;
机译:卷对卷紫外光辅助纳米压印光刻技术对功能层进行多尺度缩放
机译:使用复制模具通过卷对卷紫外线纳米压印光刻进行高密度图案转移
机译:大面积卷对卷和卷对板纳米压印光刻技术:迈向连续纳米压印高通量应用的一步
机译:使用卷对卷紫外线纳米压印光刻技术在柔性聚合物基板上对多级微结构进行图案化
机译:聚合物的压电喷射及其在卷对卷纳米压印光刻中的应用。
机译:通过软紫外-纳米压印光刻技术对图案化的Al薄膜进行退火处理大规模制造纳米图案化的蓝宝石衬底
机译:通过软紫外纳米压印光刻技术在陶瓷薄膜和硅基板上制备纳米级图案
机译:纳米级磁电子器件平行构图的纳米压印光刻技术