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Nanoimprint Lithography of Parallel Patterning of Nanoscale Magnetoelectronic Devices

机译：纳米级磁电子器件平行构图的纳米压印光刻技术

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In the last 6 months, Nanonex Corp has developed technologies based on nanoimprint lithography for parallel patterning of nanoscale magnetoelectronic devices.

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作者
Kong, L. ; Koecher, L.;
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作者单位

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年度 2002
页码 1-5
总页数 5
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类工业技术;
关键词
Electronic equipment; Magnetic devices; Silicon dioxide; Lithography; Wafers; Masks; Nanotechnology;

机译：电子设备;磁性器件;二氧化硅;光刻;晶片;掩模;纳米技术;

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