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机译:使用复制模具通过卷对卷紫外线纳米压印光刻进行高密度图案转移
Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science, 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, Japan;
机译:改进的紫外线纳米压印光刻中的柱状无释放剂复制品模具的转移耐久性
机译:通过重复紫外纳米压印光刻技术,使无硬脱模剂复制模具的转移耐久性和保真度
机译:卷对卷紫外光辅助纳米压印光刻技术对功能层进行多尺度缩放
机译:使用卷对卷紫外线纳米压印光刻技术在柔性聚合物基板上对多级微结构进行图案化
机译:聚合物的压电喷射及其在卷对卷纳米压印光刻中的应用。
机译:用于纳米压印光刻的聚合物仿制模具的有效表面氧化
机译:用于紫外线印刷的无释放剂复制品模具的耐久性和转移性能