机译:一种表征焊盘表面纹理并模拟其对CMP中平面化的影响的方法
Fraunhofer Center Nanoelectronic Technologies (CNT), Dresden, Germany;
Fraunhofer Center Nanoelectronic Technologies (CNT), Dresden, Germany;
Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf (HZDR), Dresden, Germany;
Fraunhofer Center Nanoelectronic Technologies (CNT), Dresden, Germany;
Institute of Semiconductor and Microsystems Technology (IHM), Dresden University of Technology, Dresden, Germany;
chemical-mechanical planarization CMP; pad roughness; asperities radius of curvature distribution; greenwood and williamson theory; modeling;
机译:化学机械平坦化(CMP)中的金刚石盘垫修整:一种预测垫板表面形状的表面元素方法
机译:关于化学机械平面化(CMP)工艺的晶圆/垫摩擦-第一部分:建模和分析
机译:不同浆料和抛光垫选择对铜CMP工艺平面化效率的影响
机译:化学机械平面化(CMP)中的金刚石圆盘垫处理:一种预测垫面形状的数学模型
机译:使用集成的神经网络,样条和分形方法对外围铣削表面的纹理进行建模,并分析非线性过程动力学。
机译:调节剂类型和下压力以及垫表面的微观结构对SiO2化学机械平面化性能的影响
机译:关于化学机械平坦化(Cmp)工艺的晶片/焊盘摩擦 - 第一部分:建模和分析