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机译:n型4H-SiC镍触头的组织和化学成分研究
Institute of General and Ecological Chemistry. Technical University of Lodz, ul. Zeromskiego 116. 90-924 Lodz, Poland;
Department of Semiconductor and Optoelectronics Devices, Technical University of Lodz, ul. Wolczanska 211/215, 90-924 Lodz, Poland;
silicon carbide; ohmic contact; TOF-SIMS;
机译:Ti / Ni双层接触n型4H-SiC的研究
机译:TEM和XEDS表征n型4H-SiC上Si / Ni接触层的微观结构
机译:CF_4:O_2表面蚀刻N-Type 4H-SiC上的Ni / Nb欧姆接触中的接触电阻和高温可靠性的表面蚀刻
机译:TEM和XEDS对N型4H-SiC的Si / Ni接触层的微观结构表征
机译:铟过渡金属与n型砷化镓的欧姆接触的热力学研究,以及季镓-铟-(过渡或贵金属)-砷体系的热化学行为概述。
机译:Ni与金属嵌入纳米粒子接触4H-SiC的取决于金属功函数的势垒高度
机译:用TEm和XEDs研究n型4H-siC上si / Ni接触层的微观结构