机译:中间金属层对沉积在聚合物衬底上的Ga-Al掺杂ZnO /金属/ Ga-Al掺杂ZnO多层膜性能的影响
Department of Electrical Engineering, Gachon University, Seongnam 461-701, Republic of Korea;
Department of Electrical Engineering, Gachon University, Seongnam 461-701, Republic of Korea;
A. Electronic materials; A. Multilayers; A. Thin films; B. Sputtering;
机译:ITO / Ga-Al掺杂ZnO双层薄膜的节省ITO材料性能
机译:室温下沉积在PET基板上的高柔韧性Al掺杂ZnO / Ag / Al掺杂ZnO多层膜
机译:过渡金属掺杂的ZnO(TM)/ ZnO多层膜的结构和磁性
机译:衬底加热和真空退火对直流磁控溅射沉积氧化铝掺杂ZnO薄膜光学和电学性质的影响
机译:通过脉冲激光沉积开发基于ZnO的薄膜晶体管和掺磷的ZnO和(Zn,Mg)O。
机译:退火温度对柔性衬底上掺杂Ti-Ga的ZnO薄膜性能的影响
机译:基质 - 靶距离和Si共掺杂对磁控溅射沉积的铝锌膜性能的影响