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机译:低k / Cu互连制造的高深宽比硬掩模方案技术进行工艺集成的可行性研究
机译:低k / Cu互连制造的高纵横比硬掩模方案技术进行工艺集成的可行性研究
机译:用于铜互连的高性能极低k膜集成技术和金属硬掩模工艺
机译:用于铜双镶嵌互连的低k有机SOG(k = 2.9)的工艺集成
机译:基于金属硬掩模的Cu / Ultra Low-K Interconnect的多合一蚀刻方案
机译:用于高级IC器件的片上铜/低k互连:材料集成和工艺优化研究。
机译:用于进一步缩小超大型集成器件-Cu互连的等离子增强化学气相沉积SiCH膜的低k覆盖层的材料设计
机译:Cu /多孔超低k互连技术中的介质/金属扩散屏障