机译:通过软化学方法在Pt / Ti / SiO_2 / Si衬底上生长的SrBi_4Ti_4O_(15)薄膜的铁电特性
Chemistry Institute, Department of Chemistry-Physics, UNESP C.P. 355, CEP 14801-970 Araraquara-SP, Brazil;
Thin films; Atomic force microscopy; Dielectric properties; Fatigue;
机译:Pt(111)tio_2 / sio_2 / sio(100)衬底上以(100)为主的Srbi_4ti_4o_(15)铁电薄膜的制备及铁电性能
机译:Bi_4ti_3o_(12)薄膜层上生长的Srbi_4ti_4o_(15)薄膜的铁电和介电性能
机译:化学溶液沉积共生Bi_4Ti_3O_(12)-SrBi_4Ti_4O_(15)铁电薄膜的合成及性能
机译:溶胶 - 凝胶的合成和铁电性质衍生生殖晶间 - 超晶格结构SRBI_4TI_4O_(15)-BI_4TI_3O_(12)薄膜
机译:用于非平面基材的化学溶液沉积锆钛酸钛酸盐铁电薄膜的研制
机译:Pb(Zr0.53Ti0.47)O3薄膜中铁电和光学性质的厚度依赖性
机译:使用射频磁控溅射在$ Pt / Ti / SiO_2 / Si $衬底上沉积的$ CaCu_3Ti_4O_ {12} $薄膜的沉积和介电特性