机译:高温退火的氧氮化硅薄膜提高了蓝宝石的透射率
Kongju Natl Univ, Dept Adv Mat Engn, Cheonan 31080, South Korea;
Kongju Natl Univ, Dept Adv Mat Engn, Cheonan 31080, South Korea;
Sapphire Technol Co, Hwaseong Si 445922, South Korea;
Sapphire Technol Co, Hwaseong Si 445922, South Korea;
Kongju Natl Univ, Dept Adv Mat Engn, Cheonan 31080, South Korea;
Silicon oxynitride; Sputtering; Annealing; Optical transmittance; Sapphire;
机译:通过高温退火提高ITO / Ag(Cr)/ ITO(IAI)多层薄膜的透射率
机译:不同温度退火的Si富硅氧氮膜的光致发光和拉曼散射行为
机译:氮氧化硅薄膜在不同退火温度下的光致发光特性
机译:不同温度退火的Si富硅氧氮膜的光致发光和拉曼散射行为
机译:蓝宝石(001)上钴纳米点的退火和超顺磁性行为使蓝宝石(110)上的钴薄膜变粗糙。
机译:通过快速热退火工艺增强氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:等离子体增强化学气相沉积沉积氮化硅和氮氧化硅薄膜的材料结构和机械性能
机译:二氧化硅和硅氮氧化物溶胶/凝胶薄膜的介电性能