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机译:使用聚焦离子束的干法蚀刻作为表面成像工艺的负性抗蚀剂图像
Electronic and Computer Engineering Department, University of Limerick, Limerick, Ireland;
机译:通过干法蚀刻产生负性抗蚀剂图像:一种新颖的表面成像抗蚀剂方案
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机译:负电子束抗蚀剂硬掩模离子束刻蚀工艺用于制造纳米级磁性隧道结
机译:通过干蚀刻的负抗蚀剂图像作为离子束光刻的新型顶面成像工艺
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:通过聚合物基板的地下处理具有聚焦离子束的外平面图案化
机译:使用透射电子显微镜对碳纤维复合材料的相间进行成像:通过聚焦离子束,离子束蚀刻和超薄切片术进行制备
机译:聚焦离子束暴露抗蚀剂的表面成像