机译:掩模材料和工艺参数对氯基GaN干法刻蚀中刻蚀角的影响
GaN-Device Technology, RWTH Aachen University, 52074 Aachen, Germany;
机译:氯基等离子体中GaN和BN材料的刻蚀特性
机译:氯基等离子体中GaN和BN材料的蚀刻特性
机译:使用NF3 / O2和SF6 / O2的干法蚀刻工艺中与蚀刻速率相关的参数的研究
机译:气体组成和掩模材料对硅中干蚀刻结构蚀刻轮廓的影响
机译:高度芳族单分子蚀刻掩模的抗蚀刻性机理和发展:迈向分子光刻。
机译:外延成分对ICP-OES测定的N面GaN KOH蚀刻动力学的影响
机译:蚀刻气体传感ZnO和SnO2Films各向异性干蚀刻的掩模材料的选择性
机译:通过湿法和干法蚀刻铬掩模进行图案转移制备锂铌酸盐中的光子晶体。