机译:HfCI_4和H2O在Ge / Si(100)-(2x1)上的吸附和解离的量子化学研究:SiGe表面HfO_2原子层沉积的初始阶段
State Key Laboratory of ASIC & System, Department of Microelectronics, Fudan University, Shanghai 200433, People's Republic of China;
机译:HfCl_4和H_2O在Ge / Si(100)-(2X1)上的吸附和解离的密度泛函理论研究:SiGe表面HfO_2原子层沉积的初始阶段
机译:Ge / Si(100)-(2x1)表面ZrO_2原子层沉积初期的密度泛函理论研究
机译:HfO_2原子层在羟基化GaAs(001)-4X2表面上沉积的初始表面反应的量子化学研究
机译:ZrCl / sub 4 /与Ge / Si(100)-(2 / spl times / 1)的反应机理:ZrO / sub 2 /原子层在SiGe合金表面沉积初期的密度泛函理论研究
机译:在InAs(100)和GaAs(100)表面上高k金属氧化物原子层沉积过程中的表面化学和界面演化。
机译:量子点敏化的TiO2纳米管阵列的光电化学性能:原子层沉积涂层表面改性的研究
机译:过渡金属铜原子层沉积过程中前体立体化学对解离化学吸附和表面氧化还原反应影响的量子化学研究
机译:电化学原子层外延法在au(100),(110)和(111)表面沉积Gaas的初步研究