机译:通过等离子体增强原子层沉积在各种YSZ衬底上外延生长正交晶SnO_2膜
Department of Materials Science and Engineering and Research Institute of Advanced Materials, Seoul National University, Seoul 151-744, Republic of Korea;
Department of Materials Science and Engineering and Research Institute of Advanced Materials, Seoul National University, Seoul 151-744, Republic of Korea;
Department of Materials Science and Engineering and Research Institute of Advanced Materials, Seoul National University, Seoul 151-744, Republic of Korea;
A1. Crystal structure; A3. Atomic layer deposition; B1. Tin oxide; B1. Yttria-stabilized zirconia;
机译:通过等离子增强原子层沉积外延生长InN薄膜
机译:通过原子层沉积在(110)YSZ衬底上外延生长的板钛矿TiO2薄膜
机译:通过等离子体增强原子层沉积在非晶衬底上低温生长多晶InN膜
机译:使用CEO_2 / YSZ缓冲层组合的基板上的YBA_2CU_3O_(7-X)薄膜外延生长
机译:反馈控制的整合和运行控制对氧化铪薄膜的等离子体增强的原子层沉积
机译:调音氧化物和氮化物的材料特性等离子体增强原子层沉积过程中的衬底偏置效应在平面和3D基板地形上
机译:在相对低温下等离子体增强原子层沉积产生的超薄外延ALN膜的微观结构和界面
机译:等离子体增强原子层沉积ag薄膜的类似等离子体行为。