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机译:真空晶圆键合技术是制造金属/半导体异质结构的替代方法
A1.Wafer bonding; A3.Molecular beam epitaxy; B3.Spin-valve transistor;
机译:半导体晶圆键合技术在硅/石墨烯/硅双异质结构的制备中的应用
机译:基于玻璃-硅-玻璃键合技术的高性能晶圆级真空包装的设计与制造
机译:通过晶圆键合和氢剥落技术制造增强传输的半导体衬底
机译:真空晶片键合技术作为制造金属/半导体异质结构的替代方法
机译:新型1.3微米高速直接调制半导体激光器件设计以及用于顺应性衬底制造的晶圆键合技术的发展。
机译:半导体晶圆键合技术在硅/石墨烯/硅双异质结构的制备中的应用
机译:先进的等离子体处理:用于半导体应用的蚀刻,沉积和晶圆键合技术
机译:使用晶片键合技术创建无缺陷高Ge含量(25%)siGe-on-Insulator(sGOI)衬底的方法。