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机译:关于硅中p-n结的描绘
Defence Research Telecommunications Establishment, Ottawa, Canada;
机译:硅纳米线中的结点描绘的选择性电镀
机译:通过扫描电容显微镜在硅器件中定义零场条件并描绘pn结的新过程
机译:通过化学蚀刻技术在硅和工程硅衬底上进行缺陷描绘:新型化学方法和基本方面
机译:通过HF / HNO_3 / CH_3COOH溶液中的阳极蚀刻硅结曲线描绘
机译:用于纳米级CMOS集成电路的硅,硅锗和硅碳源极/漏极结的低电阻率接触方法。
机译:使用基于铟锡氧化物的硅和pn硅结的器件对基于大孔硅的光伏特性进行比较研究
机译:基于氧化铟锡和PN-硅连接器件的大孔硅基光伏特性的比较研究