机译:反应磁控共溅射电子回旋共振等离子体辅助沉积Cu(In,Ga)S_2薄膜的形貌和结构演变
Department of Solar Fuels and Energy Storage Materials, Helmholtz-Zentrum Berlin fuer Materialien und Energie GmbH, Hahn-Meitner-Platz 1, D14109 Berlin, Germany;
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机译:反应磁控共溅射电子回旋共振等离子体辅助沉积Cu(In,Ga)S2薄膜的形貌和结构演变
机译:反应磁控共溅射过程中Cu(In,Ga)S_2薄膜的生长和形貌
机译:原位EDXRD研究Cu(In,Ga)S_2薄膜在反应磁控共溅射过程中的形核和相形成
机译:溅射电流对(Ti_(1-x)Cr_x)N薄膜的结构和形貌的影响,反应性不平衡磁控掺杂沉积
机译:微波等离子体电子回旋共振化学气相沉积法沉积的纳米晶和非晶硅薄膜晶体管:材料分析,器件制造和表征。
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:溅射电流对反应性不平衡磁控共溅射沉积(Ti1-xCrx)N薄膜结构和形貌的影响